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从铁氧体扩展开来进行“技术革命”

发布时间:2019-05-20 20:52 来源:未知 编辑:admin

  技术产业化。TDK的名字由来,是由东京工业大学电化学系(Tokyo(东京) Denki(电气) Kagaku(化学))的首字母组成的,即两位博士当年授课的单位。

  回顾TDK的技术方针,是以更高一筹的意志与觉悟,树立新的技术典范为宗旨,勇于挑战与革命。TDK有值得骄傲的四大发明:第一是TDK创业时的铁氧体,第二是磁带技术,第三是推动电子设备小型化的精密层叠技术,第四是应用在电脑硬盘驱动器里的薄膜磁头&超尖端技术。

  TDK获得过一些重要奖项,例如2009年东工大和TDK共同荣膺IEEE里程碑奖,奖励“铁氧体的发明与工业化生产”,可见TDK铁氧体对世界的贡献。2012和2013年,TDK连续两年入选Thomson Reuters(汤森路透)评出的全球百强创新企业。

  松冈薰:TDK的DNA是磁性。微细加工、粉体与薄膜生成、烧结、涂布等进步形成了核心技术。目前TDK正以材料技术为核心,目前看好三大类技术和产品:薄膜磁头与超尖端技术;基板内置用薄膜电容器(TFCP);未来的非接触供电技术。

  松冈薰:电脑中的硬盘驱动器,很多采用了TDK的技术。TDK磁头的精度达到将1.2×0.8×0.3mm的磁头滑块在磁盘上面,是以10nm的高度飞起来的水平,其速度和高度的难度相当于波音747飞机以0.56mm的高度贴着地面飞行。

  TDK的隧道磁电阻磁头达到了原子层控制。另外,热辅助磁记录可实现超1Tb/in2的记录密度,关键技术包括能够实现加热的“近场光”向数十纳米的区域聚焦,TDK还在世界上率先开发出搭载激光光源的记录磁头。

  为此,TDK采用12m的半导体加工技术,可见磁头模块比半导体芯片加工更加先进。

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